接下来,是热退火步骤。
对于pss薄膜来说,退火的主要作用是除掉其中残留的水分,所以只需要温度比水的沸点稍高即可。
许秋将旋涂好的基片连带着培养皿,置于设定温度为130摄氏度的加热台上,然后按下秒表进行计时。
一般需要30分钟以上。
等待时间较长,许秋回到办公桌,打算喝口水,休息一会儿。
突然,旁边的学姐冷不丁的问了一句:“许秋,你对未来有什么打算呀?”
许秋差点把喝到嘴里的水喷出来。
喜欢我有科研辅助系统请大家收藏:(m.txt88.win),Txt88网更新速度最快。
接下来,是热退火步骤。
对于pss薄膜来说,退火的主要作用是除掉其中残留的水分,所以只需要温度比水的沸点稍高即可。
许秋将旋涂好的基片连带着培养皿,置于设定温度为130摄氏度的加热台上,然后按下秒表进行计时。
一般需要30分钟以上。
等待时间较长,许秋回到办公桌,打算喝口水,休息一会儿。
突然,旁边的学姐冷不丁的问了一句:“许秋,你对未来有什么打算呀?”
许秋差点把喝到嘴里的水喷出来。
喜欢我有科研辅助系统请大家收藏:(m.txt88.win),Txt88网更新速度最快。